化学気相成長法とは？

▼化学気相成長法▼
『化学気相成長』より : 化学気相成長、化学気相蒸着または化学蒸着（CVD: ”Chemical Vapor Deposition”）は、さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基盤物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基盤表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。常圧（大気圧）や加圧した状態での運転が可能な他、化学反応を活性化させる目的で、反応管内を減圧しプラズマなどを発生させる場合もある。切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用される。
高真空を必要としないため、製膜速度や処理面積に比して装置規模が大きくなりにくいメリットがある。

【情報源】Wikipedia
【引用元URL】http://ja.wikipedia.org/wiki/%E5%8C%96%E5%AD%A6%E6%B0%97%E7%9B%B8%E6%88%90%E9%95%B7%E6%B3%95

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